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Applied Surface Science
  • 中科院分區(qū):2區(qū)
  • JCR分區(qū):Q1
  • CiteScore :12.5

Applied Surface ScienceSCIE

國(guó)際簡(jiǎn)稱:APPL SURF SCI 中文名稱:應(yīng)用表面科學(xué)

Applied Surface Science雜志是一本工程技術(shù)-材料科學(xué):膜應(yīng)用雜志。是一本享有盛譽(yù)的頂級(jí)學(xué)術(shù)雜志,由Elsevier出版,該期刊創(chuàng)刊于1985年,出版周期為Semimonthly,始終保持著高質(zhì)量和高水平的學(xué)術(shù)內(nèi)容。在中科院分區(qū)表2023年12月升級(jí)版中,被歸類為大類學(xué)科分區(qū)2區(qū),顯示出其卓越的學(xué)術(shù)水平和影響力。

  • ISSN:0169-4332

  • 出版地區(qū):NETHERLANDS

  • 出版周期:Semimonthly

  • E-ISSN:1873-5584

  • 創(chuàng)刊時(shí)間:1985

  • 出版語言:English

  • 是否OA:未開放

  • 預(yù)計(jì)審稿時(shí)間: 約2.5個(gè)月 約4.2周

  • 影響因子:6.3

  • 是否預(yù)警:否

  • 研究方向:工程技術(shù),材料科學(xué):膜

  • 年發(fā)文量:2601

  • 研究類文章占比:99.96%

  • Gold OA文章占比:8.00%

  • H-index:159

  • 出版國(guó)人文章占比:0.44

  • 出版撤稿文章占比:0.0002...

  • 開源占比:0.0366

  • 文章自引率:0.0746...

雜志簡(jiǎn)介

《應(yīng)用表面科學(xué)》涵蓋有助于更好地理解表面、界面、納米結(jié)構(gòu)及其應(yīng)用的主題。該期刊關(guān)注利用特定表面分析技術(shù)和/或計(jì)算方法確定的原子和分子水平的材料特性的科學(xué)研究,以及此類結(jié)構(gòu)的處理。

值得一提的是,Applied Surface Science已成功入選 SCIE(科學(xué)引文索引擴(kuò)展板) 等國(guó)際知名數(shù)據(jù)庫,這進(jìn)一步彰顯了其作為國(guó)際優(yōu)秀期刊的卓越地位和廣泛影響力。自創(chuàng)刊以來,該雜志一直保持著Semimonthly的出版周期,以高質(zhì)量、高水平的學(xué)術(shù)內(nèi)容著稱。在JCR(Journal Citation Reports)分區(qū)等級(jí)中,該期刊榮獲Q1評(píng)級(jí)。此外,其CiteScore指數(shù)達(dá)到12.5,該期刊2023年的影響因子達(dá)到6.3,再次驗(yàn)證了其優(yōu)秀學(xué)術(shù)水平。

Applied Surface Science是一本未開放獲取期刊,但其高質(zhì)量的學(xué)術(shù)內(nèi)容和廣泛的影響力使其成為了材料科學(xué)-CHEMISTRY, PHYSICAL研究領(lǐng)域不可或缺的重要刊物。無論是對(duì)于學(xué)者、研究人員還是學(xué)術(shù)界來說,該期刊都是一份不可或缺的重要資源。

期刊指數(shù)

中科院SCI分區(qū)
CiteScore指數(shù)
自引率
發(fā)文量
影響因子

中科院SCI分區(qū)是中國(guó)科學(xué)院對(duì)SCI期刊進(jìn)行的一種分類和評(píng)級(jí)。在學(xué)術(shù)界,中科院SCI分區(qū)被廣泛應(yīng)用于科研業(yè)績(jī)獎(jiǎng)勵(lì)、職稱評(píng)審等方面。許多高校和科研單位會(huì)按照中科院SCI分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)來加權(quán)計(jì)算科研成果的影響力。因此,對(duì)于科研工作者來說,了解中科院SCI分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)和方法,以及具體的分區(qū)結(jié)果,對(duì)于評(píng)估自己的科研成果和選擇合適的期刊發(fā)表論文都非常重要。

CiteScore(或稱為引用指數(shù))是由全球著名學(xué)術(shù)出版商Elsevier于2016年12月基于Scopus數(shù)據(jù)源推出的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)。CiteScore指數(shù)能夠反映期刊在較長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)的平均影響力。通過計(jì)算期刊過去四年內(nèi)發(fā)表的文章被引用的次數(shù),這使得該指標(biāo)能夠更準(zhǔn)確地評(píng)估期刊的影響力和學(xué)術(shù)價(jià)值。

自引率的計(jì)算公式為:自引率 = (期刊自己發(fā)表的文章被自己引用的次數(shù)) / (期刊自己發(fā)表的文章總數(shù))。其中,期刊自己發(fā)表的文章指的是該期刊所發(fā)表的所有論文,包括文章、綜述、簡(jiǎn)報(bào)、通訊等各類論文。如果自引率過高,可能會(huì)影響到該期刊的學(xué)術(shù)聲譽(yù)和權(quán)威性。

中科院分區(qū)表

中科院 SCI 期刊分區(qū) 2023年12月升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類學(xué)科 小類學(xué)科
材料科學(xué) 2區(qū)
CHEMISTRY, PHYSICAL 物理化學(xué) MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學(xué):膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理
2區(qū) 2區(qū) 2區(qū) 2區(qū)

JCR 分區(qū)(2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:CHEMISTRY, PHYSICAL SCIE Q2 48 / 178

73.3%

學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q1 3 / 23

89.1%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q1 29 / 179

84.1%

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q1 17 / 79

79.1%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:CHEMISTRY, PHYSICAL SCIE Q1 35 / 178

80.62%

學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q1 1 / 23

97.83%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q1 28 / 179

84.64%

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q1 12 / 79

85.44%

CiteScore 分區(qū)(2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore 排名
12.5 1.21 1.173
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q1 22 / 434

95%

大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces and Interfaces Q1 5 / 57

92%

大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films Q1 13 / 132

90%

文章摘錄

  • Exploration of threshold and resistive-switching behaviors in MXene/ BaFe12O19 ferroelectric memristors Author: Zhang, Miaocheng; Chen, Xingyu; Chen, Ziyang; Dan, Ronghui; Wei, Yixin; Rong, Huanhuan; Wang, Qiang; Chen, Xi; Han, Aoze; Wang, Yu; Shao, Weijin; Zhang, Hao; Zhang, Yerong; Wang, Lei; Xu, Jianguang; Tong, Yi Journal: APPLIED SURFACE SCIENCE. 2023; Vol. 613, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.155956
  • MOFs/nanofiber-based capacitive gas sensors for the highly selective and sensitive sensing of trace SO2 Author: Zhai, Zhenyu; Wang, Jiaona; Sun, Yaxin; Hao, Xiaoke; Niu, Ben; Xie, Haijiao; Li, Congju Journal: APPLIED SURFACE SCIENCE. 2023; Vol. 613, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.155772
  • Atomically dispersed Co/C3N4 for boosting aerobic cyclohexane oxidation Author: Yuan, Enxian; Zhou, Meixia; Jian, Panming; Hou, Xu Journal: APPLIED SURFACE SCIENCE. 2023; Vol. 613, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.155886
  • Organic-inorganic interlayer enabling the stability of PVDF-HFP modified Li metal for lithium-oxygen batteries Author: Yuan, Dong; Ji, Chenhao; Zhuge, Xiangqun; Chai, Aohua; Pan, Liaoting; Li, Yibing; Luo, Zhihong; Luo, Kun Journal: APPLIED SURFACE SCIENCE. 2023; Vol. 613, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.155863
  • Tetraphenylethylene and porphyrin-based covalent organic framework with square lattice for effective photocatalytic hydrogen evolution Author: Xu, Zhilin; Cui, Xu; Li, Yanhui; Li, Yanwei; Si, Zhenjun; Duan, Qian Journal: APPLIED SURFACE SCIENCE. 2023; Vol. 613, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.155966
  • Theoretical exploration of the structural evolution of sodium sulfide clusters in Na-S batteries Author: Xiang, Pan; Tian, Ziqi; Li, Yanle; Gao, Yang; Wang, Zhiming; Chen, Liang Journal: APPLIED SURFACE SCIENCE. 2023; Vol. 613, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.155906
  • Defects level and internal electric field co-induced direct Z-scheme charge transfer for efficient photocatalytic H2 evolution over ZnIn2S4/In2Se3 Author: Wang, Xuehua; Wang, Xianghu; Shi, Tianyu; Fang, Yuhan; Meng, Alan; Wang, Lei; Li, Shaoxiang; Li, Guicun; Yu, Xiao; Li, Zhenjiang Journal: APPLIED SURFACE SCIENCE. 2023; Vol. 613, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.155963
  • Fabrication of Zn vacancies-tunable ultrathin-g-C3N4@ZnIn2S4/SWNTs composites for enhancing photocatalytic CO2 reduction Author: Wang, Huijie; Li, Jinze; Wan, Yang; Nazir, Ahsan; Song, Xianghai; Huo, Pengwei; Wang, Huiqin Journal: APPLIED SURFACE SCIENCE. 2023; Vol. 613, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.155989

免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。

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